拓荊科技 視覺(jué)中國(guó) 資料圖

1月29日，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體專用設(shè)備廠商拓荊科技股份有限公司（下稱“拓荊科技”，688072）公告披露2022年年度業(yè)績(jī)，經(jīng)財(cái)務(wù)部門(mén)初步測(cè)算，預(yù)計(jì)公司2022年年度實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入16.50億元至17.20億元，與上年同期相比（同比）增加 8.92億元至9.62億元，同比增長(zhǎng)117.69%至126.92%。

公告稱，預(yù)計(jì)公司2022年年度實(shí)現(xiàn)歸屬于母公司所有者的凈利潤(rùn)為3.30億元至4.00億元，同比增加2.62億元至3.32億元，同比增長(zhǎng)381.85%至484.06%。

經(jīng)財(cái)務(wù)部門(mén)初步測(cè)算，拓荊科技預(yù)計(jì)2022年年度實(shí)現(xiàn)歸屬于母公司所有者扣除非經(jīng)常性損益后凈利潤(rùn)為1.60億元至1.90億元，與上年同期相比實(shí)現(xiàn)扭虧為盈，同比增加2.42億元至2.72億元。

拓荊科技稱，公司預(yù)計(jì)2022年年度業(yè)績(jī)較上年同期大幅增長(zhǎng)，其主要原因?yàn)椋菏芤嬗趪?guó)內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)良好的發(fā)展態(tài)勢(shì)，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)設(shè)備需求增加，同時(shí)公司繼續(xù)加大產(chǎn)品研發(fā)投入，產(chǎn)品結(jié)構(gòu)不斷優(yōu)化，產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力持續(xù)增強(qiáng)，進(jìn)一步拓展客戶群體，本年銷售訂單大幅增加，營(yíng)業(yè)收入維持高增長(zhǎng)趨勢(shì)。

此外，拓荊科技稱，在公司持續(xù)加大研發(fā)投入的情況下，期間費(fèi)用率有所下降，規(guī)模效應(yīng)驅(qū)動(dòng)公司盈利水平提高，歸屬于上市公司股東的凈利潤(rùn)和歸屬于上市公司股東的扣除非經(jīng)常性損益的凈利潤(rùn)同比有較大幅度提升。

拓荊科技成立于2010年4月，總部位于沈陽(yáng)市渾南區(qū)，是國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)，主要從事高端半導(dǎo)體專用設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與技術(shù)服務(wù)。公司聚焦研發(fā)和生產(chǎn)半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備，該設(shè)備與光刻機(jī)、刻蝕機(jī)共同構(gòu)成芯片制造三大主設(shè)備。

據(jù)官網(wǎng)介紹，該公司在北京、上海、海寧、美國(guó)成立四家子公司，產(chǎn)品已進(jìn)入北京、上海、武漢、合肥、天津、中國(guó)臺(tái)灣等20多個(gè)地區(qū)的60條生產(chǎn)線。主要產(chǎn)品包括等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）設(shè)備、原子層沉積（ALD）設(shè)備和次常壓化學(xué)氣相沉積（SACVD）設(shè)備三個(gè)產(chǎn)品系列，擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，技術(shù)指標(biāo)達(dá)到國(guó)際同類產(chǎn)品先進(jìn)水平，公司產(chǎn)品已廣泛應(yīng)用于集成電路晶圓制造，以及TSV封裝、光波導(dǎo)、Micro-LED、OLED顯示等高端技術(shù)領(lǐng)域。

2022年4月，拓荊科技正式登陸科創(chuàng)板。自上市以來(lái)，該公司股價(jià)已累計(jì)上漲近260%。